Huawei regista patente para chips de 2 nm, mas o desafio é a produção
A Huawei apresentou uma patente que descreve um processo inovador para ultrapassar as limitações atuais da fotolitografia de ultravioleta profundo. A proposta, em teoria, permitiria à China aproximar-se do fabrico de chips ao nível dos 2 nm. Será que aqui também vão ultrapassar os EUA?
























